• Vacuum Melting Electronic Grade Copper SiC Graphite Crucible for Semiconductor Target Material
Vacuum Melting Electronic Grade Copper SiC Graphite Crucible for Semiconductor Target Material

Vacuum Melting Electronic Grade Copper SiC Graphite Crucible for Semiconductor Target Material

Подробная информация о продукте:

Место происхождения: Китай
Фирменное наименование: Baidun
Номер модели: ВМ-EG400

Оплата и доставка Условия:

Количество мин заказа: 1 шт.
Цена: Negotiate
Упаковывая детали: Экспортная деревянная упаковка
Время доставки: 25-30 дней
Условия оплаты: Т/Т
Поставка способности: 2000 шт/месяц
Лучшая цена контакт

Подробная информация

Материал: Кремниевый карбид и графит Плотность: 2.21-2,25 г/см3
Форма: Цилиндрический Температурная устойчивость: До 1650°C
Процесс: Вакуумная плавка Приложение: Медь электронного качества для полупроводниковых мишеней
Чистота: 6Н (99,9999%) Атмосфера: Высокий вакуум
Выделить:

electronic grade copper melting crucible

,

SiC graphite crucible for semiconductors

,

vacuum melting crucible for target material

Характер продукции

Vacuum Melting Electronic Grade Copper SiC Graphite Crucible

Ultra-high purity crucible for vacuum melting of 6N (99.9999%) electronic grade copper used in semiconductor sputtering targets. Minimal outgassing and zero contamination design.

Key Features

  • Vacuum compatible ultra-low outgassing
  • 6N purity retention capability
  • Semiconductor grade material quality
  • Clean melting for target manufacturing
  • Batch traceability documentation

Applications

Semiconductor sputtering target production, electronic grade copper melting, high-purity copper for chip manufacturing, PVD target material preparation.

Хотите узнать больше подробностей об этом продукте
Мне интересно Vacuum Melting Electronic Grade Copper SiC Graphite Crucible for Semiconductor Target Material не могли бы вы прислать мне более подробную информацию, такую ​​как тип, размер, количество, материал и т. д.
Спасибо!
Жду твоего ответа.